硅纳米线及硅纳米管

1 (p0-1): 1.1 硅纳米线概述
1 (p0-2): 1.2 硅纳米线的制备
1 (p0-3): 第1章 绪论
2 (p0-4): 1.2.1 激光烧蚀法制备硅纳米线
2 (p0-5): 1.2.2 化学气相沉积法
2 (p0-6): 1.2.3 热气相沉积法
3 (p0-7): 1.2.4 溶液法
3 (p0-8): 1.2.5 模板法制备一维硅材料
5 (p0-9): 1.2.6 硅衬底直接生长法
5 (p0-10): 1.2.7 水热法制备硅纳米线
5 (p0-11): 1.2.8 电子束平版印刷术制备硅纳米线
6 (p0-12): 1.3.2 硅纳米线电子传输特性
6 (p0-13): 1.3 硅纳米线物理特性
6 (p0-14): 1.3.1 硅纳米线场发射特性
7 (p0-15): 1.3.3 硅纳米线光学性能
7 (p0-16): 1.3.4 硅纳米线磁学性能
7 (p0-17): 1.3.5 硅纳米线热传导性能
8 (p0-18): 1.4 硅纳米线应用的前期处理
8 (p0-19): 1.4.1 减少晶体缺陷处理
8 (p0-20): 1.4.2 分散以及除去表面氧化层处理
9 (p0-21): 1.4.3 表面金属离子处理
10 (p0-22): 1.5.3 拉曼光谱
10 (p0-23): 1.5.2 X射线光电子能谱
10 (p0-24): 1.5.1 电镜表征
10 (p0-25): 1.5 硅纳米线的表征
11 (p0-26): 1.5.4 近边X射线吸收精细结构光谱
11 (p0-27): 1.6 硅纳米线的应用及展望
12 (p0-28): 1.6.1 场效应晶体管
12 (p0-29): 1.6.2 单电子探测器
12 (p0-30): 1.6.3 单电子存储元件
13 (p0-31): 1.7 硅纳米管的制备及应用前景
13 (p0-32): 1.7.1 硅纳米管的制备
14 (p0-33): 1.7.2 硅纳米管的应用前景
15 (p0-34): 参考文献
20 (p0-35): 2.1 硅纳米线的制备
20 (p0-36): 第2章 硅纳米线／管的制备
21 (p0-37): 2.1.1 激光烧蚀法
26 (p0-38): 2.1.2 化学气相沉积法
28 (p0-39): 2.1.3 热气相沉积法
31 (p0-40): 2.1.4 溶液法
33 (p0-41): 2.1.5 其他方法
35 (p0-42): 2.2 生长条件对硅纳米线的影响
35 (p0-43): 2.2.1 不同载气
37 (p0-44): 2.2.2 不同的原材料
40 (p0-45): 2.2.3 靶的表面形态
42 (p0-46): 2.3 硅纳米管制备的理论预测
46 (p0-47): 2.4 硅纳米管制备的实验实现
46 (p0-48): 2.4.1 模板法
48 (p0-49): 2.4.2 水热法
53 (p0-50): 2.4.3 其他方法制备硅纳米管
56 (p0-51): 参考文献
60 (p0-52): 第3章 硅纳米线／管的表征方法
60 (p0-53): 3.1 硅纳米线／管的表征
60 (p0-54): 3.1.1 形貌、成分及结构表征
66 (p0-55): 3.1.2 能谱分析
67 (p0-56): 3.1.3 电学及光谱学分析
70 (p0-57): 3.1.4 其他表征方法
71 (p0-58): 3.2 硅纳米线／管的形貌
71 (p0-59): 3.2.1 本征硅纳米线的形貌
74 (p0-60): 3.2.2 掺杂硅纳米线的形貌
75 (p0-61): 3.2.3 硅纳米管的形貌
78 (p0-62): 3.3 硅纳米线的拉曼光谱
78 (p0-63): 3.3.1 实验数据与讨论
79 (p0-64): 3.3.2 拉曼峰线形分析
85 (p0-65): 3.3.3 新拉曼峰的出现
85 (p0-66): 参考文献
90 (p0-67): 4.1 同步辐射原理
90 (p0-68): 4.1.1 同步辐射介绍
90 (p0-69): 第4章 硅纳米线／管的同步辐射研究
93 (p0-70): 4.1.2 X射线吸收精细结构（XAFS）光谱
98 (p0-71): 4.1.3 MCD
99 (p0-72): 4.1.4 角分辨X射线吸收谱
99 (p0-73): 4.2 研究纳米材料
99 (p0-74): 4.2.1 从研究碳纳米线／管开始
101 (p0-75): 4.2.2 X射线吸收谱纳米线／管取向研究
102 (p0-76): 4.2.3 X射线吸收谱纳米线／管的缺陷、旋度研究
103 (p0-77): 4.3 同步辐射研究硅纳米线／管
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